半导体化学品

半导体化学品主要包括蚀刻液、剥离液、高纯试剂、清洗液、冷却液和含氟功能材料等系列产品,应用于显示面板、IC集成电路领域,是生产制程中的光刻、显影、蚀刻、剥离、清洗等制造工艺的关键化学品材料,对芯片的良率提升、显示面板画质的清晰度等起着重要的作用。

 

新宙邦凭借二十余年深耕精细电子化学品的经验积累,依靠高品质的产品和完善的质量管理体系赢得了客户信任,公司相关产品的纯度、金属杂质含量、颗粒数量和粒径、品质一致性、稳定性均满足要求,并且稳定供应行业客户。

 

未来新宙邦将充分利用自身技术、资源、地域等优势,不断完善生产基地的布局,持续提升产品研发和自主创新的能力,更好的为行业和客户创造价值,提供优质的产品和服务。

产品系列

蚀刻液系列

蚀刻液系列产品主要用于蚀刻制程,将光刻胶上的微图形转移到光刻胶下面的各层材料上。性能优异、长寿命、安全。

特性
  • 长寿命

  • 高安全

  • 定制化解决方案

用途
  • 1

    手机屏幕

  • 1

    液晶电视

  • 1

    车载显示屏幕

  • 1

    其他穿戴设备显示屏

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剥离液系列

剥离液系列产品主要用于平板显示面板制造Array工艺中光刻胶剥离。产品性能优异,安全环保,可根据不同应用需求定制化开发。

特性
  • 安全环保

  • 性能优异

  • 定制化解决方案

用途
  • 1

    手机屏幕

  • 1

    LED电视

  • 1

    车载显示屏幕

  • 1

    其他穿戴设备显示屏

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高纯化学品系列

高纯化学品主要用于晶圆清洗、光刻、腐蚀等工序中,主要产品有双氧水、氨水、硫酸、异丙醇、氟化铵等,高纯度、高洁净度、少金属杂质,成熟稳定。

特性
  • 高纯度

  • 高洁净度

用途
  • 1

    芯片

  • 物联网

  • 1

    智能家居

  • 1

    数字基建

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清洗剂系列

清洗剂主要用于晶圆制造、封装,OLED等制程中的清洗工艺,能去除晶圆、OLED表面杂质和蚀刻后残留物质,保证产品的洁净度。

特性
  • 高效

  • 可定制

  • 长寿命

用途
  • 1

    智能手机

  • 1

    云计算

  • 1

    数字基建

  • 1

    车载显示屏幕

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冷却液系列

冷却液主要用于晶圆制造的机台冷却,高效、不可燃,环境友好,性价比高,稳定性好。

特性
  • 高效

  • 环境友好

  • 稳定性好

用途
  • 1

    半导体机台设备

  • 1

    芯片

  • 1

    数字基建

  • 1

    云计算

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